我国大气污染非常严重,特别是经济发达地区酸雨频率还在增加,且有从硫酸型向硫酸硝酸复合型转变的趋势,氮氧化物可能取代硫氧化物成为酸雨的主要来源,因此对烟气进行同时脱硫脱硝非常迫切。关于烟气脱硫脱硝技术,国内外进行了广泛的研究与大规模的工程实践,但目前采用的工艺大多在锅炉尾烟气段分别设置脱硫、脱硝装置,这种分级方式存在占地面积大、系统复杂及阻力大、投资及运行费高、烟气系统稳定性控制要求高等问题。烟气同时脱硫脱硝工艺以其相对投资少、工艺简单,越来越受到重视。利用现有脱硫设施实现烟气同时脱硫脱硝更是具有实施快、投资低等优点,有很好的经济和环境效益。
现有的湿法烟气脱硫工艺,习惯上先经水喷淋冷却烟气,使入塔烟温降至塔体防腐材料能长期耐受的温度。目前我国锅炉烟气基本上建设了脱硫设施,且90%以上采用湿法脱硫,特别是中小工业锅炉,基本上是采用以石灰/石灰石、钠碱及碱性废水等碱类为脱硫剂的简易湿法工艺。
从经济、技术等各个方面因素考虑,典型的湿法脱硫工艺仍将占据主要地位,因此,在现有湿法脱硫工艺上引入NOx吸收剂尿素及促进吸收的强氧化剂,使原有的湿法烟气脱硫系统同时具有脱硝功能,从而形成与我国国情相适应的投资少澳门·新葡萄新京6663、运行费用低、能符合我国排放标准的脱硫脱硝一体化技术。
本发明提出一种烟气湿法同时脱硫脱硝方法,该方法简化了钠基湿法脱硫和回收工艺澳门·新葡萄新京6663烟气湿法同时脱硫脱硝方法与流程,并且实现脱硫脱硝同时进行,脱硫效率得到了提高。
一种烟气湿法同时脱硫脱硝方法,是将待净化的烟气通入吸收反应器,在反应器中烟气与吸收液充分接触,烟气中的NOx、SO2被吸收后净化排放,所述的吸收液是由钠基脱硫剂与含氯强氧化剂配置成的浆液,所述含氯强氧化剂的重量百分数为钠基脱硫剂0.1~0.5%,吸收液经过所述烟气后会得到处理液。
进一步,所述含氯强氧化剂为亚氯酸钠、次氯酸钠、亚氯酸钙、次氯酸钙以及漂白粉中的一种或者多种。
进一步,本发明的一些实施例中,以次氯酸钠作为含氯强氧化剂,其处理液进行回收利用的方法为:将处理液进行过滤去除固态杂质,滤清液通过结晶与液态杂质分离后,采用水冷却结晶生成mm级的MgSO4·7H2O晶粒,或采用蒸发结晶直接生成mm级的MgSO4·H2O晶粒;晶浆经离心脱水,分离后的母液大部分可由循环泵返回脱硫塔。
1、含氯强氧化剂溶于水产生ClO-、ClO2-等强氧化性离子,可以将NO氧化,生成NO3-、Cl-等产物,吸收剂溶于水呈弱碱性,水解产生的OH-与SO2反应生成SO32-及SO42-离子,从而去除烟气中的NOx和SO2。该氯强氧化剂与钠基脱硫剂结合进行脱硫93%以上生成Na2SO4,就无需将脱硫浆液进行氧化塔进行氧化处理,节省工序,降低成本。
2、在目前广泛采用的碱性脱硫剂脱硫工艺的基础上实现了同时脱硫脱硝,在投入相当小的前提下脱除了60~90%的氮氧化物以及93%的SO2,而且吸收剂来源广泛,成本低廉,强氧化剂使用量小,脱硫脱硝效率较高,以较少的投入产生较大的环境效益。
锅炉烟气经锅炉引风机引出后,自塔底进入吸收塔,循环水池的吸收剂经循环水泵增压后,由塔顶喷淋而下,气液两相逆向流动,在塔内完成SO2、NOx的脱除,最后经塔上部的除雾板除雾后从烟囱高空排放。吸收液回流至塔底,澄清分离,泥渣定期外排,上清液进入循环水池回用。新配制的吸收剂贮存于配药池。当吸收剂的浓度下降一定值时,启动加药泵,往循环水池补充浓吸收剂。
配置含有10%火碱和纯碱的浆液,加入0.3%次氯酸钠混合均匀形成悬浊液,作为烟气湿法同时脱硫脱硝的吸收剂,在旋流板塔中与烟气进行逆向充分接触,在塔内完成SO2、NOx的脱除。对净化后的烟气检测结果表明,能达到65%~90%的脱硝效率和93%以上的脱硫效率。
配置含有6%火碱和纯碱的浆液,加入0.06%漂白粉混合均匀形成悬浊液,作为烟气湿法同时脱硫脱硝的吸收剂,在旋流板塔中与烟气进行逆向充分接触,在塔内完成SO2、NOx的脱除澳门·新葡萄新京6663。对净化后的烟气检测结果表明,能达到60%~88%的脱硝效率和93%以上的脱硫效率。
配置含有8%火碱和纯碱的浆液,加入0.22%次氯酸钠、0.1%次氯酸钙混合均匀形成悬浊液,作为烟气湿法同时脱硫脱硝的吸收剂,在旋流板塔中与烟气进行逆向充分接触,在塔内完成SO2、NOx的脱除。对净化后的烟气检测结果表明,能达到60%~87%的脱硝效率和93%以上的脱硫效率。
配置含有12%火碱和纯碱的浆液,加入0.3%次氯酸钠、0.3%亚次氯酸钠混合均匀形成悬浊液,作为烟气湿法同时脱硫脱硝的吸收剂,在旋流板塔中与烟气进行逆向充分接触,在塔内完成SO2、NOx的脱除。对净化后的烟气检测结果表明,能达到65%~90%的脱硝效率和93%以上的脱硫效率。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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